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线列式PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备
编号:SN20151013154830471
类别:PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术王者彩票注册登录入口,在光学玻璃王者彩票注册登录入口、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜王者彩票注册登录入口,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件?王者彩票注册登录入口?晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        多室CVD结构由2个进出片室、3个独立PECVD反应真空室按直线结构连接,工件通过传输机构输送到各个真空室中进行工艺处理,各真空室间用插板阀连接王者彩票注册登录入口王者彩票注册登录入口。该系统主要由真空室王者彩票注册登录入口、真空获得系统王者彩票注册登录入口、射频和甚高频电源王者彩票注册登录入口、衬底加热控温系统、气路系统王者彩票注册登录入口、尾气处理系统、传动系统等部分组成王者彩票注册登录入口。

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